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钨钼溅射靶材

钨钼溅射靶材

Molybdenum  Target

     溅射技术概念:

         溅射技术是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,被轰击的固体是用溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。

    溅射靶材应用:
         溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。西安格美金属材料有限公司钨靶材和钼靶材广泛应用于光伏、TFT-LCD等现代工业。
         溅射靶材对纯度有较高的要求,一般钨钼溅射靶材要求纯度达到99.95%以上,并且具有良好的密度和耐腐蚀性能。西安格美金属材料有限公司经过20多年的研究与生产经验,已经能生产出产品性能非常稳定的产品,为您节约成本,创造出更多的价值。
    产品材料:

    钨靶材、钼靶材、钨钼合金靶材、以及钼铌合金


            



     
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